Legierung MS-1004
Silizium Cr0
Silizium Kr00
Silizium Kr1
Silizium Kr2
Silizium Kr3
Legierung RS-1004
Legierung RS-1714
Legierung RS-3001
Legierung RS-3710
Legierung RS-4206
Legierung RS-4400
Legierung RS-4800
Legierung PC-5402
Legierung PC-5406
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Bezeichnung
Beschreibung
Legierung MS-1004 angewendet: Methode für die Herstellung von Vakuum-thermischen auftragen von hitzebeständigen, Resistive Dünnschicht-Elemente und verschiedene Hilfs Schichten von elektronischen Geräten; für den Erhalt von hochohmigen Resistive Schichten Dünnschicht-Chipsatz Eigenmarke Methode der explosiven Verdampfung mit Wolfram-Verdampfer.
Hinweis
Legierung resistiven Silizium.
Standards
Chemische Zusammensetzung
Si - Basis.